Microtrac S3500SI圖像激光粒度分析儀

產品介紹

MicrotracS3500SI圖像激光粒度分析儀

技術特點：

一臺儀器，具備兩種分析技術，即采用靜態(tài)激光衍射技術和圖像分析技術同時測量樣品。

納米粒度儀

MicrotracS3500SI圖像激光粒度分析儀

技術指標：

測量范圍：0.01-2800um（有多種測量范圍可選擇）

圖像測量范圍：0.75-2000um

光源：

激光衍射：	三束固體激光器
動態(tài)圖像分析：	高性能頻閃LED

分析時間：

激光衍射：	10-30S
動態(tài)圖像分析：	1 Minute

檢測系統(tǒng)：

激光衍射：	接受角度： 0.02-163°
	檢測器：151個檢測單元，以對數(shù)方式優(yōu)化排列的高靈敏硅光電二極管
	信號采集：無需掃描，實時接受全量程散射光信號
動態(tài)圖像分析：	像素5M，圖像分辨率2456×2058,15圖片/秒(可選配高速相機)

操作軟件：提供強大的數(shù)據(jù)處理能力，包括圖形，數(shù)據(jù)輸出/輸入，個性化輸出報告及各種文字處理功能，數(shù)據(jù)的完整性符合21CFRPART11安全要求。

納米粒度儀是用于測量納米顆粒尺寸的儀器，其在納米電子器件的制備中起著至關重要的作用。納米電子器件的性能和可靠性在很大程度上取決于納米顆粒的尺寸和分布。

一、粒度控制

通過提供準確的粒徑測量，幫助科研人員和工程師嚴格控制納米顆粒的尺寸。這對于納米電子器件的性能至關重要，因為粒徑直接影響電子傳輸效率、催化活性以及材料的磁性等性質。

二、工藝優(yōu)化

在納米電子器件的制備過程中，粒度儀可以幫助研究人員評估不同合成方法和條件對納米顆粒尺寸的影響。通過這些信息，研究人員可以優(yōu)化合成工藝，以獲得更均勻的粒度分布和期望的顆粒尺寸。